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普樂斯15年專注等離子清洗機研制低溫等離子表面處理系統(tǒng)方案解決商

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普樂斯電子5月再獲2項等離子自動清洗設(shè)備實用新型專利

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2021-05-24 09:39【
文章導(dǎo)讀:2021年5月,昆山普樂斯電子科技有限公司(以下簡稱普樂斯電子)申報的2項實用新型專利證書獲得通過,專利產(chǎn)品為“一種等離子清洗機雙項推頭” “一種等離子清洗機壓蓋”。此專利為普樂斯內(nèi)部資深技術(shù)人員與設(shè)計人員共同研發(fā)推出,由國家知識產(chǎn)權(quán)局審核批準。自此,普樂斯電子等離子清洗技術(shù)向半導(dǎo)體自動化領(lǐng)域又邁出新的一步。
       2021年5月,昆山普樂斯電子科技有限公司(以下簡稱普樂斯電子)申報的2項實用新型專利證書獲得通過,專利產(chǎn)品為“一種等離子清洗機雙項推頭” “一種等離子清洗機壓蓋”。此專利為普樂斯內(nèi)部資深技術(shù)人員與設(shè)計人員共同研發(fā)推出,由國家知識產(chǎn)權(quán)局審核批準。自此,普樂斯電子等離子清洗技術(shù)向半導(dǎo)體自動化領(lǐng)域又邁出新的一步。

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       多年來,普樂斯電子不斷加大科技研發(fā)投入,緊跟科技發(fā)展的腳步從未停歇,一直不斷努力研發(fā)新技術(shù)。因半導(dǎo)體行業(yè)的特殊性,客戶對等離子清洗設(shè)備的智能化和自動化提出了更高的要求。普樂斯電子傾聽市場的需求,成功研制的等離子自動清洗設(shè)備不僅可以節(jié)省企業(yè)人工成本,提高效率,更好去除芯片表面氧化物與微小污染物,使內(nèi)部更加潔凈,細小導(dǎo)電絲與芯片緊密貼合,導(dǎo)電效果更好。經(jīng)驗證,此專利設(shè)備在實際使用中得到了半導(dǎo)體行業(yè)客戶一致認可和青睞。

 
      普樂斯是一家專業(yè)從事等離子體清洗機的國家高新技術(shù)公司,扎根昆山12年來,企業(yè)致力于整合等離子體技術(shù)、智能設(shè)備研發(fā)制造、半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)制造等領(lǐng)域,成功開發(fā)了多個智能自動化設(shè)備,共獲得30多項專利。未來,普樂斯將繼續(xù)立足于走科技創(chuàng)新之路,以科技為先導(dǎo),不斷開發(fā)差異化、多元化、創(chuàng)新型的等離子自動清洗設(shè)備。高度關(guān)注高科技領(lǐng)域的行業(yè)發(fā)展與需要,鉆研出更加精尖與符合市場需求的等離子技術(shù),為國家高科技發(fā)展盡一份力。

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    ‌高效徹底‌:能夠深入微納米級孔隙中,徹底清除難以觸及的污染物。

    ‌環(huán)保節(jié)能‌:無需使用化學溶劑,減少廢水廢氣排放,符合綠色生產(chǎn)要求,且能耗低。

    ‌廣泛適用‌:適用于多種材料表面,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,不會對材料性能產(chǎn)生負面影響。

    ‌工藝可控‌:通過調(diào)整工作氣體種類、壓力、功率等參數(shù),可精確控制清洗過程‌。


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