普樂斯關(guān)注并看好芯片制造的巨大潛力
文章導(dǎo)讀：根據(jù)IC Insight的報告，中國是全球最大的半導(dǎo)體市場，預(yù)計到2024年將占據(jù)全球半導(dǎo)體市場的40%，與此同時，預(yù)計在2024年，中國市場所使用芯片的國產(chǎn)化率將達到20.7%。在普樂斯看來，這兩組數(shù)據(jù)充分說明了中國芯片市場，特別是芯片制造市場的巨大潛力。
根據(jù)IC Insight的報告，中國是全球最大的半導(dǎo)體市場，預(yù)計到2024年將占據(jù)全球半導(dǎo)體市場的40%，與此同時，預(yù)計在2024年，中國市場所使用芯片的國產(chǎn)化率將達到20.7%。在普樂斯看來，這兩組數(shù)據(jù)充分說明了中國芯片市場，特別是芯片制造市場的巨大潛力。
在過去發(fā)展的數(shù)十年當(dāng)中，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)生了許多變化。其中，晶圓代工廠的崛起使得半導(dǎo)體行業(yè)的制造中心向亞洲轉(zhuǎn)移。近些年來，芯片制造這一話題備受業(yè)界關(guān)注，而，與芯片制造相關(guān)的半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體設(shè)備等方面的發(fā)展均受到了業(yè)界的關(guān)注。這些領(lǐng)域被業(yè)界視為是半導(dǎo)體上游市場，也是芯片制造的關(guān)鍵，對于材料和設(shè)備的發(fā)展而言，過濾、分離市場則是這些領(lǐng)域的一個重要組成部分。
眾所周知，光刻是半導(dǎo)體行業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)驅(qū)動力，包括 DUV 光刻膠，頂部和底部抗反射涂層，浸沒式光刻的應(yīng)都推動了工藝的進步。但在這個過程當(dāng)中，每個步驟都有可能在晶圓表面引入有害顆粒污染、微氣泡空隙缺陷和金屬污染。這就使得光刻膠制造商需要粗濾過濾器和終端用戶使用的終端分配過濾器，來防止非預(yù)期顆粒在半導(dǎo)體芯片制造過程中沉積到晶圓表面。
此外，芯片制造過程中所采用的其他材料也會影響最終晶圓生產(chǎn)的良率。其中包括了對晶圓表面平整度的要求的提升，因此，也促生了對CMP拋光材料的需求。而過濾器則是拋光系統(tǒng)中重要的一部分——一般情況下，半導(dǎo)體拋光系統(tǒng)內(nèi)通常需要3個漿料過濾器，用以去除較大的研磨顆粒，并維持所需的研磨顆粒配方和化學(xué)構(gòu)成，實現(xiàn)許多不同半導(dǎo)體工藝性能的最大化。
對于半導(dǎo)體設(shè)備本身來說，化學(xué)品對設(shè)備的侵蝕同樣也需要過濾器來保障其使用壽命?？刂屏黧w發(fā)生污染會導(dǎo)致設(shè)備關(guān)機，甚至?xí)绊懮a(chǎn)效率，因此污染控制是半導(dǎo)體器件制造中最重要的問題之一。而過濾器則可將流體污染物降至最低，避免關(guān)鍵零件遭到破壞，確保機臺以峰值效率進行工作。
在這種勢頭之下，中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的成長也為普樂斯帶來新的發(fā)展機會。改革開放40年來，中國已經(jīng)在諸多領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了從量變到質(zhì)變的突破，同時中國早已成為全球最大的電子消費品市場，全球最大的電子產(chǎn)品生產(chǎn)制造中心，在政策引導(dǎo)、資金支持、終端推動，三大合力之下，中國必將成為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的中堅力量。
本文來自于半導(dǎo)體行業(yè)觀察，
如有侵權(quán)，請聯(lián)系管理員，我們將予以刪除！
普樂斯電子12年專注研制等離子清洗機，等離子體清洗機，等離子清洗設(shè)備，常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理設(shè)備，大氣低溫等離子體表面處理系統(tǒng)，大氣常壓收放卷等離子表面設(shè)備處理，已通過ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認證，為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗、活化、刻蝕、涂覆的等離子表面處理解決方案，是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機廠家。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯隨時恭候您的來電！
眾所周知，光刻是半導(dǎo)體行業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)驅(qū)動力，包括 DUV 光刻膠，頂部和底部抗反射涂層，浸沒式光刻的應(yīng)都推動了工藝的進步。但在這個過程當(dāng)中，每個步驟都有可能在晶圓表面引入有害顆粒污染、微氣泡空隙缺陷和金屬污染。這就使得光刻膠制造商需要粗濾過濾器和終端用戶使用的終端分配過濾器，來防止非預(yù)期顆粒在半導(dǎo)體芯片制造過程中沉積到晶圓表面。
此外，芯片制造過程中所采用的其他材料也會影響最終晶圓生產(chǎn)的良率。其中包括了對晶圓表面平整度的要求的提升，因此，也促生了對CMP拋光材料的需求。而過濾器則是拋光系統(tǒng)中重要的一部分——一般情況下，半導(dǎo)體拋光系統(tǒng)內(nèi)通常需要3個漿料過濾器，用以去除較大的研磨顆粒，并維持所需的研磨顆粒配方和化學(xué)構(gòu)成，實現(xiàn)許多不同半導(dǎo)體工藝性能的最大化。
對于半導(dǎo)體設(shè)備本身來說，化學(xué)品對設(shè)備的侵蝕同樣也需要過濾器來保障其使用壽命?？刂屏黧w發(fā)生污染會導(dǎo)致設(shè)備關(guān)機，甚至?xí)绊懮a(chǎn)效率，因此污染控制是半導(dǎo)體器件制造中最重要的問題之一。而過濾器則可將流體污染物降至最低，避免關(guān)鍵零件遭到破壞，確保機臺以峰值效率進行工作。
在這種勢頭之下，中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的成長也為普樂斯帶來新的發(fā)展機會。改革開放40年來，中國已經(jīng)在諸多領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了從量變到質(zhì)變的突破，同時中國早已成為全球最大的電子消費品市場，全球最大的電子產(chǎn)品生產(chǎn)制造中心，在政策引導(dǎo)、資金支持、終端推動，三大合力之下，中國必將成為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的中堅力量。
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普樂斯電子12年專注研制等離子清洗機，等離子體清洗機，等離子清洗設(shè)備，常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理設(shè)備，大氣低溫等離子體表面處理系統(tǒng)，大氣常壓收放卷等離子表面設(shè)備處理，已通過ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認證，為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗、活化、刻蝕、涂覆的等離子表面處理解決方案，是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機廠家。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯隨時恭候您的來電！
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