半導(dǎo)體硅
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產(chǎn)品特點
樣品介紹：此樣品是應(yīng)用于半導(dǎo)體領(lǐng)域，樣品中間有一層晶圓。
工藝難點：晶圓表面太過光滑不能滿足下段工序的要求，由于晶圓面積太小，用其他方法對表面粗化比較困難。
等離子處理目的：用普樂斯真空等離子設(shè)備對樣品表面進行處理，利用特殊氣體電離產(chǎn)生的等離子與晶圓表面進行反應(yīng)，同時利用等離子的物理反應(yīng)，以達到晶圓表面的粗化。處理前后在顯微鏡下面可以明顯的觀察到粗化的效果。
工藝難點：晶圓表面太過光滑不能滿足下段工序的要求，由于晶圓面積太小，用其他方法對表面粗化比較困難。
等離子處理目的：用普樂斯真空等離子設(shè)備對樣品表面進行處理，利用特殊氣體電離產(chǎn)生的等離子與晶圓表面進行反應(yīng)，同時利用等離子的物理反應(yīng)，以達到晶圓表面的粗化。處理前后在顯微鏡下面可以明顯的觀察到粗化的效果。
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產(chǎn)品參數(shù)
注：以上參數(shù)僅供參考，本公司可能對相關(guān)產(chǎn)品參數(shù)進行調(diào)整，如有變動，恕不再另行通知。若有不明處，歡迎來電詢問。
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工作原理
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應(yīng)用領(lǐng)域
快速反應(yīng)，專業(yè)配合，精心打造服務(wù)生態(tài)鏈
1年質(zhì)保，終身維護，提供配套服務(wù)
承諾到達現(xiàn)場的時限：昆山4小時，蘇州8小時，江浙滬24小時，其他區(qū)域48小時
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榮譽資質(zhì)
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