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等離子刻蝕在晶圓和線路板領(lǐng)域的使用

返回列表 來源：普樂斯 瀏覽：次 發(fā)布日期：2019-09-02 11:07【大 中 小】
文章導(dǎo)讀：等離子刻蝕所用的氣體大多為含氟的氣體，其中又以四氟化碳居多，等離子刻蝕在晶圓制造和線路板制造領(lǐng)域所用非常廣泛。
一、晶圓制造行業(yè)應(yīng)用
在晶圓制造行業(yè)中光刻機(jī)利用四氟化碳?xì)怏w進(jìn)行硅片的線路刻蝕，等離子清洗機(jī)利用四氟化碳進(jìn)行氮化硅刻蝕及光刻膠去除。等離子刻蝕利用純四氟化碳?xì)怏w或四氟化碳與氧氣配合的方式可對(duì)晶圓制造中的氮化硅進(jìn)行微米級(jí)的刻蝕，利用四氟化碳與氧氣或氫氣配合的方式可對(duì)微米級(jí)的光刻膠進(jìn)行去除。
等離子刻蝕的行業(yè)應(yīng)用-普樂斯等離子清洗機(jī)
二、線路板制造行業(yè)應(yīng)用
等離子清洗機(jī)的刻蝕在線路板制造行業(yè)應(yīng)用是非常早的，無論是硬質(zhì)線路板還是柔性線路板在生產(chǎn)過程中都會(huì)進(jìn)行孔內(nèi)除膠，傳統(tǒng)工藝是利用化學(xué)藥劑清洗的方式，但隨著線路板行業(yè)的發(fā)展，板子越做越小，孔也越來越小，化學(xué)藥劑做孔內(nèi)除膠的難度越來越大，且孔越小咬蝕量也難以控制，還會(huì)造成化學(xué)殘留，影響后段工藝。而等離子清洗機(jī)的刻蝕是干式的，不會(huì)有化學(xué)殘留，并且等離子體的擴(kuò)散性非常強(qiáng)，所產(chǎn)生的刻蝕性氣相等離子體可以對(duì)微米級(jí)的孔內(nèi)進(jìn)行有效的刻蝕，咬蝕量也可以通過工藝參數(shù)的調(diào)整得到很好的控制。
下圖分別為等離子清洗機(jī)處理前、處理后和線路板鍍銅后的截圖，由此可證明等離子清洗機(jī)可有效去除孔內(nèi)污染物且對(duì)襯板實(shí)現(xiàn)了定量咬蝕，明顯提升了鍍銅質(zhì)量。
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