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真空等離子清洗設(shè)備

返回列表 來(lái)源：普樂(lè)斯 瀏覽：次 發(fā)布日期：2023-03-13 14:05【大 中 小】
文章導(dǎo)讀：真空等離子清洗設(shè)備通常包括真空室、等離子體發(fā)生器、氣體供應(yīng)系統(tǒng)、PLC控制系統(tǒng)、真空泵。材料被放置在真空室中，等離子體發(fā)生器產(chǎn)生等離子體，氣體供應(yīng)系統(tǒng)用于控制氣體流量和組成，PLC控制系統(tǒng)用于整體設(shè)備的操控。
真空等離子清洗設(shè)備（等離子清洗機(jī)）利用等離子發(fā)生器產(chǎn)生的等離子體進(jìn)行表面，在清洗表面的同時(shí)可以帶來(lái)表面改性的效果，解決材料粘接難、涂覆難等問(wèn)題。
小型真空等離子清洗設(shè)備
真空等離子清洗設(shè)備組成
真空等離子清洗設(shè)備通常包括真空室、等離子體發(fā)生器、氣體供應(yīng)系統(tǒng)、PLC控制系統(tǒng)、真空泵。材料被放置在真空室中，等離子體發(fā)生器產(chǎn)生等離子體，氣體供應(yīng)系統(tǒng)用于控制氣體流量和組成，PLC控制系統(tǒng)用于整體設(shè)備的操控。
真空等離子清洗設(shè)備
真空等離子清洗設(shè)備特點(diǎn)
清洗效果好：等離子體清洗可以有效去除材料表面的污垢、氧化物等污染物質(zhì)；
操作簡(jiǎn)單：操作簡(jiǎn)單，只需要將材料放入真空室中，啟動(dòng)設(shè)備即可；
無(wú)化學(xué)殘留物：等離子體清洗不需要使用化學(xué)藥劑，不會(huì)在材料表面留下化學(xué)殘留物；
適用性強(qiáng)：適用于各種材料的清洗，包括金屬、塑料、玻璃、陶瓷等材料；
高效性：設(shè)備可以快速、高效地清洗各類產(chǎn)品，一般在幾秒至幾十秒。
真空等離子清洗設(shè)備
綜上所述，真空等離子清洗設(shè)備具有清洗效果好、操作簡(jiǎn)單、無(wú)化學(xué)殘留物、適用性強(qiáng)、經(jīng)濟(jì)環(huán)保和高效性等特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于各種材料的清洗和表面處理。

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