晶圓級(jí)封裝為什么用到晶圓等離子清洗機(jī)?
文章導(dǎo)讀:晶圓級(jí)封裝是芯片封裝中常見的方式之一,它的封裝要求非常高,對(duì)表面微觀污染物處理非常重要,隨著工藝的發(fā)展和進(jìn)步,等離子表面處理的應(yīng)用開始廣泛了,今天我們就聊聊晶圓級(jí)封裝為什么用到等離子清洗機(jī)?
晶圓級(jí)封裝是芯片封裝中常見的方式之一,它的封裝要求非常高,對(duì)表面微觀污染物處理非常重要;目前主流的方式有濕式清洗和干式清洗,濕式清洗主要使用化學(xué)溶劑,干式清洗是等離子清洗機(jī)處理;隨著工藝的發(fā)展和進(jìn)步,等離子表面處理的應(yīng)用開始廣泛了,今天我們就聊聊晶圓級(jí)封裝為什么用到等離子清洗機(jī)?
1、晶圓等離子清洗機(jī)有哪些優(yōu)點(diǎn)?
1-1、無需溶解劑和水:降低了污染,符合環(huán)保生產(chǎn)的要求
1-2、節(jié)約能源,降低成本:整個(gè)過程只需工藝氣體和電,少量設(shè)備會(huì)用到水冷
1-3、全程干燥的處理方式:減少了濕式處理帶來的各種問題
1-4、工藝簡單、操作方便:設(shè)備操作簡單,降低人工
1-5、生產(chǎn)可控性強(qiáng):產(chǎn)品一致性好,提高了良品率
2、晶圓等離子清洗機(jī)需要注意什么呢?
2-1、設(shè)備的無塵化要求:晶圓要在無塵室中處理,腔體要采用鋁制材料,電極及托架要方便拆除,有利于后期維護(hù)處理
2-2、水冷要求:晶圓在等離子清洗中容易產(chǎn)生高溫,為了處理安全,需要加入水冷,降低腔體內(nèi)溫度
2-3、結(jié)構(gòu)要求:不同的產(chǎn)品需要設(shè)計(jì)獨(dú)特的結(jié)構(gòu),這樣才能達(dá)到好的處理效果
3、晶圓等離子清洗機(jī)使用原理
密閉的反應(yīng)腔體被真空泵不斷抽氣,從1個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下降到設(shè)定的壓力值并維持真空度;隨著真空度不斷提高,壓力越來越小,氬、氫、氮?dú)獾裙に嚉怏w分子間距逐漸拉長,分子間作用力越來越小;啟動(dòng)等離子發(fā)生器讓組合式電極之間產(chǎn)生高壓交變電場,使得自由電子能量加速,去激發(fā)工藝氣體分子形成等離子體;具有高反應(yīng)活性或高能量的離子體,會(huì)與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)、碰撞形成各種揮發(fā)性物質(zhì);這些揮發(fā)性物質(zhì)伴隨工藝氣流由真空泵抽取出去,從而達(dá)到被處理對(duì)象表面清潔、活化等目的。
總結(jié):晶圓等離子清洗機(jī)現(xiàn)在應(yīng)用非常廣泛,各大廠家都開始使用這一工藝,相信在未來的發(fā)展,等離子表面處理工藝可以在半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)揮更大的作用!
昆山普樂斯電子13年專注研制等離子清洗機(jī),等離子清洗機(jī),等離子清洗設(shè)備,常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理設(shè)備,大氣低溫等離子表面處理系統(tǒng),大氣常壓收放卷等離子表面 設(shè)備處理的國家高新技術(shù)企業(yè),普樂斯嚴(yán)格執(zhí)行ISO9001質(zhì)量體系管理,生產(chǎn)的等離子清洗機(jī)通過歐盟CE認(rèn)證,為電子、半導(dǎo)體封裝、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗、活化、刻蝕、涂覆的等離子表面處理解決方案,是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機(jī)廠家。如果您想要了解關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中存在疑問,歡迎點(diǎn)擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢,或者直接撥打全國統(tǒng)一 服務(wù)熱線400-816-9009,普樂斯隨時(shí)恭候您的來電!

1-1、無需溶解劑和水:降低了污染,符合環(huán)保生產(chǎn)的要求
1-2、節(jié)約能源,降低成本:整個(gè)過程只需工藝氣體和電,少量設(shè)備會(huì)用到水冷
1-3、全程干燥的處理方式:減少了濕式處理帶來的各種問題
1-4、工藝簡單、操作方便:設(shè)備操作簡單,降低人工
1-5、生產(chǎn)可控性強(qiáng):產(chǎn)品一致性好,提高了良品率

2-1、設(shè)備的無塵化要求:晶圓要在無塵室中處理,腔體要采用鋁制材料,電極及托架要方便拆除,有利于后期維護(hù)處理
2-2、水冷要求:晶圓在等離子清洗中容易產(chǎn)生高溫,為了處理安全,需要加入水冷,降低腔體內(nèi)溫度
2-3、結(jié)構(gòu)要求:不同的產(chǎn)品需要設(shè)計(jì)獨(dú)特的結(jié)構(gòu),這樣才能達(dá)到好的處理效果
3、晶圓等離子清洗機(jī)使用原理
密閉的反應(yīng)腔體被真空泵不斷抽氣,從1個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下降到設(shè)定的壓力值并維持真空度;隨著真空度不斷提高,壓力越來越小,氬、氫、氮?dú)獾裙に嚉怏w分子間距逐漸拉長,分子間作用力越來越小;啟動(dòng)等離子發(fā)生器讓組合式電極之間產(chǎn)生高壓交變電場,使得自由電子能量加速,去激發(fā)工藝氣體分子形成等離子體;具有高反應(yīng)活性或高能量的離子體,會(huì)與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)、碰撞形成各種揮發(fā)性物質(zhì);這些揮發(fā)性物質(zhì)伴隨工藝氣流由真空泵抽取出去,從而達(dá)到被處理對(duì)象表面清潔、活化等目的。
總結(jié):晶圓等離子清洗機(jī)現(xiàn)在應(yīng)用非常廣泛,各大廠家都開始使用這一工藝,相信在未來的發(fā)展,等離子表面處理工藝可以在半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)揮更大的作用!

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