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普樂斯15年專注等離子清洗機(jī)研制低溫等離子表面處理系統(tǒng)方案解決商

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【普樂斯】AOI設(shè)備-AOI光學(xué)自動檢測設(shè)備-Wafer AOI系列

品牌:普樂斯
名稱:AOI設(shè)備-AOI光學(xué)自動檢測設(shè)備-Wafer AOI系列
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產(chǎn)品特點(diǎn)

1、支持4/6/8英寸晶圓及切割環(huán)   
2、2500萬像素分辨率,AI深度神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)加持     
3、自動光學(xué)對焦、位置矯正、物鏡切換
4、簡易程式制作,減輕操作人員負(fù)擔(dān)
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產(chǎn)品參數(shù)

型號 Wafer AOI系列
測試對象 支持4/6/8英寸晶圓及切割環(huán)
載臺 微孔陶瓷X/Y/R
相機(jī)像素 2500萬像素高分辨率
可檢測平面 AI深度神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)加持
顯微鏡光學(xué)系統(tǒng) 5輪物鏡轉(zhuǎn)換器,配備2X,5X,10X,20X顯微物鏡
光學(xué)模式 自動光學(xué)對焦,自動位置矯正,自動物鏡切換
計(jì)算效率 多服務(wù)器分布式計(jì)算提速
控制方式 簡易程式制作,減輕操作人員負(fù)擔(dān)
圖像系統(tǒng) 彩色圖像Review系統(tǒng)
擴(kuò)展升級 擴(kuò)展兼容12英寸晶圓及切割環(huán)
注:以上參數(shù)僅供參考,本公司可能對相關(guān)產(chǎn)品參數(shù)進(jìn)行調(diào)整,如有變動,恕不再另行通知。若有不明處,歡迎來電詢問。
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工作原理

AOI檢測技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生的背景是電子元件集成度與精細(xì)化程度高,檢測速度與效率更高,檢測零缺陷的發(fā)展需求,其最大優(yōu)點(diǎn)是節(jié)省人力,降低成本,提高生產(chǎn)效率, 統(tǒng)一檢測標(biāo)準(zhǔn)和排除人為因素干擾,保證了檢測結(jié)果的穩(wěn)定性,可重復(fù)性和準(zhǔn)確性,及時(shí)發(fā)現(xiàn)產(chǎn)品的不良,確保出貨質(zhì)量。
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應(yīng)用領(lǐng)域

適用于晶圓后道工序外觀檢測   
精準(zhǔn)檢測晶圓圖形/蝕刻不良、崩邊/缺邊、劃傷/切割破損、異物、破損、臟污等缺陷
快速反應(yīng),專業(yè)配合,精心打造服務(wù)生態(tài)鏈
1年質(zhì)保,終身維護(hù),提供配套服務(wù)
承諾到達(dá)現(xiàn)場的時(shí)限:昆山4小時(shí),蘇州8小時(shí),江浙滬24小時(shí),其他區(qū)域48小時(shí)
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榮譽(yù)資質(zhì)

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